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题名:
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书刻相对论 / 胡川隆编著 , |
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ISBN:
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978-7-5326-5779-7 价格： CNY90.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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93页 彩图,照片 24cm |
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出版发行:
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出版地： 上海 出版社： 上海辞书出版社 出版日期： 2021 |
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内容提要:
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作者胡川隆自幼酷爱中国书法,长期从事汉字艺术、“刀笔合一”的实践和基础理论研究,在大理石上由传统刻字换新为留墨石刻技艺,先后创立乐帮龙华留墨刻石社、上海刻道书法院,“90上海中国民间艺术博览”《解放日报》赞誉留墨石刻充分体现了上海科技文化发达的特征,曾获上海市优秀发明奖。留墨石刻于2007年列入徐汇区第一批非物质文化遗产名录。本书收录作者关于非遗项目留墨石刻、书法、传拓等研究文章,并配有60余幅非遗留墨石刻作品,是作者在书法、石刻方面研究成果的一次汇集。 |
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主题词:
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大理石 石刻 |
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中图分类法:
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J314.3 版次： 5 |
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其它题名:
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刻道与书法的辩证统一 |
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主要责任者:
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胡川隆 编著 |